半导体“刻蚀（Etch）”工艺技术的详解； - 知乎
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。 是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。
刻蚀_百度百科
刻蚀（英文：Etch）是半导体制造、微电子IC制造及微纳制造工艺中的关键步骤，与光刻工艺共同实现图形化处理。
ETCH中文 (简体)翻译：剑桥词典 - Cambridge Dictionary
ETCH翻译：（尤指在金属或玻璃上）蚀刻，凿出。 了解更多。
半导体制造工艺—刻蚀（EtchTechnology）-电子工程专辑
Jul 10, 2024 · 在将晶圆制成半导体的过程中需要采用数百项工程。 其中，一项最重要的工艺是蚀刻（Etch）——即，在晶圆上刻画精细电路图案。 蚀刻（Etch）工程的成功取决于在设定的分布范围 …
半导体工艺（五）——刻蚀（Etch）_半导体etch-CSDN博客
：在任何的刻蚀工艺中，总会有一定程度的、计划的过刻蚀，以便允许表层厚度变化，再或者是为了下一步工艺的要求等等。 ：湿法喷雾刻蚀、浸没刻蚀。 _半导体etch
一文详解芯片刻蚀工艺之干法刻蚀（附PPT解析） - 宸优创芯
Sep 1, 2023 · 等离子刻蚀（Plasma etch）是一种绝对化学刻蚀工艺，也称为化学干法刻蚀（Chemical dry etch）。 它的优点在于不会导致晶圆表面的离子损伤。
ETCH - East Tennessee Children's Hospital | Knoxville, TN
Latest News East Tennessee Children's Hospital Fantasy of Trees and Gala Among the Trees Raises $1.88 Million December 11, 2025 Protecting Your Child from RSV December 8, 2025 Children’s …
什么是半导体ETCH工艺？ - 知乎
半导体蚀刻 （Etch）工艺是半导体制造过程中的关键步骤之一，用于将 光刻工艺 中形成的掩膜图案精确地转移到晶圆表面的材料层上，以下从定义、原理、类型、工艺流程、关键参数和挑战等方面进行详 …
Etching (microfabrication) - Wikipedia
Etching tanks used to perform piranha, hydrofluoric acid or RCA clean on 4-inch wafer batches at LAAS technological facility in Toulouse, France Etching is used in microfabrication to chemically remove …
Etching: The Art of Semiconductor Micromachining - MDPI
Feb 13, 2025 · VLSI and ULSI designs demand much more precise pattern transfer fidelity. In addition, aspect ratios (depth-to-width ratios) in advanced devices increased the ability to anisotropically etch …